Bei Elektronikfertigungsprozessen wie Ätzen, Schleifen und Polieren enthält das industrielle Abwasser häufig Schwermetallpartikel, chemische Lösungen und hohe Konzentrationen an Schwebstoffen. Werden diese Schadstoffe nicht ordnungsgemäß behandelt, können sie langfristig zu Wasserverschmutzung führen und Verstöße gegen die Abwassereinleitungsvorschriften nach sich ziehen.
Wichtigste Herausforderungen:
- Hohe Konzentrationen von Schwermetall-Schwebstoffen: Diese können Wasserquellen leicht verunreinigen.
- Strenger Regulierungs- und Inspektionsdruck: Die Einhaltung internationaler Standards wie RoHS und WEEE ist obligatorisch.
- Hohe Anforderungen an die Stabilität der Behandlung: Jede Systemausfallzeit kann sich direkt auf die Produktionspläne auswirken.
Lösungsfähigkeiten:
1. Hohe Partikelabscheideleistung
Das wellenförmige Trennsystem fängt Metallpartikel effektiv ab und gewährleistet so einen stabilen Ablauf nachfolgender Prozesse wie Elektrodialyse oder chemischer Behandlung.
2. Betrieb mit geringen Vibrationen und geringem Geräuschpegel
Entwickelt, um die strengen Anforderungen an Geräuschdämpfung und Präzisionsbetrieb in der Elektronikfertigung zu erfüllen.
3. Hervorragende Systemintegrationsfähigkeit
Lässt sich nahtlos mit anderen Reinigungsanlagen – wie Koagulationsbecken oder chemischen Fällungssystemen – integrieren, um eine mehrstufige Abwasserbehandlungslösung zu bilden.