W procesach produkcji elektroniki, takich jak trawienie, szlifowanie i polerowanie, ścieki przemysłowe często zawierają cząsteczki metali ciężkich, roztwory chemiczne i wysokie stężenie zawiesin. Niewłaściwe oczyszczenie tych zanieczyszczeń może prowadzić do długotrwałego zanieczyszczenia wody i naruszenia przepisów dotyczących odprowadzania ścieków.
Główne wyzwania:
- Wysokie stężenie zawieszonych metali ciężkich: Mogą one łatwo zanieczyścić źródła wody.
- Surowe regulacje i kontrole: Zgodność z normami międzynarodowymi, takimi jak RoHS i WEEE, jest obowiązkowa.
- Duże zapotrzebowanie na stabilność procesu: Każda awaria systemu może mieć bezpośredni wpływ na harmonogramy produkcji.
Możliwości rozwiązania:
1. Wysoka wydajność usuwania cząstek
System separacji falowej skutecznie wychwytuje cząstki metalu, zapewniając stabilną pracę dalszych procesów, takich jak elektrodializa lub obróbka chemiczna.
2. Niski poziom wibracji i hałasu
Zaprojektowane tak, aby spełniać rygorystyczne wymagania dotyczące kontroli hałasu i precyzyjnej obsługi w środowiskach produkcji urządzeń elektronicznych.
3. Doskonała zdolność integracji systemów
Można je bezproblemowo zintegrować z innymi urządzeniami oczyszczającymi, takimi jak zbiorniki koagulacyjne lub systemy wytrącania chemicznego, tworząc wielostopniowe rozwiązanie do oczyszczania ścieków.